Ein hochtechnologischer Hersteller von optischen Bauteilen hatte Probleme mit der Ausbeute während der Expositions- und Härtephase der Produktion von Mikrolinsen auf Waferebene.

• Unbeständigkeit der Bestrahlung:Die herkömmlichen UV-Lampen konnten keine gleichmäßige Lichtverteilung über große Substratoberflächen gewährleisten.

• Thermische Ausdehnung:Übermäßige Infrarotwärme verzerrten während der Photolithographie und des Aushärtungsprozesses empfindliche Submikron-Linsenstrukturen.

Anstelle der traditionellen Quecksilberlampen oder der Abgabeverfahren haben wir eineHoch einheitliche UV-LED-Überflutungssystemspeziell für die optische Verarbeitung von Halbleitern konstruiert:

• Exposition gegenüber Spin-Coated-Harz:Das System erzeugt eine volle Oberflächenflutbelastung direkt auf die mit Spin-Beschichtung beschichtete Photoresist/UV-Harzschicht durch eine Photomaske.

• Fortgeschrittene optische Konstruktion:Speziell entwickelte Linsen optimieren die Lichtverteilung und erzeugen eine branchenführendeEinheitlichkeit der Bestrahlung innerhalb von ± 3%über das gesamte Aushärtungsgelände.

• Wahre kalte Lichtquelle:Mit einer präzisen365 nm SchmalbandspektrumDas System eliminiert die Infrarotstrahlung und hält das Substrat bei Raumtemperatur, um die Mikrostrukturen vor thermischer Verformung zu schützen.

• Fehlerfreie Produktkonsistenz:Die Abstoßungsraten aufgrund von Kantenhärtungsschwächen sanken aufNull, dank des ultra-einheitlichen UV-Lichtfeldes.

• Strukturelle Integrität unterhalb der Mikronen:Durch die Beseitigung der thermischen Belastung wurde eine perfekte Dimensionsstabilität für hochpräzise Fresnel-Linsen gewährleistet.

• Verbesserung der Produktionseffizienz:Instant UV LED On/Off-Funktionen eliminierten Aufwärmzeiten und maximierten den Durchsatz für Halbleiterleitungen mit hohem Volumen.

[Kontaktieren Sie unsere Anwendungsingenieure für eine benutzerdefinierte UV-LED-Lösung-Shenzhen Super-curing Opto-Electronic CO., Ltd.- Ich weiß.